レーザー学会第469回研究会

「レーザー・ビーム・パルスパワー技術によるBeyond EUV光源」のご案内

日　時：2014年12月5日（金）

場　所：大和川酒造北方風土館

　　　　（〒966-0861 福島県喜多方市字寺町4761）

　　　　TEL 0241-22-2233　FAX 0241-22-2223

交　通：喜多方駅より徒歩10分

　　　　URL: http://www.yauemon.co.jp/

内　容：　近年，波長13.5 nmのEUV光源の次世代半導体リソグラフィ露光用光源の次世代波長（6.X nm）について議論され始めた．我が国でも，逆コンプトン過程による高平均出力光源だけでなく，レーザー生成プラズマ光源および放電生成プラズマ光源についても実験的研究が開始されている．また，原子・分子過程の研究者の注目も集め始めている．更には，改めて水の窓軟X線光源や顕微鏡についても議論され始めている．

　本研究会では，レーザーや電子ビームを含めた量子ビーム，プラズマだけでなく，X線光学素子，放射線化学，イメージングなども含めて，包括的に幅広く議論する場を提供する．

参加費：会員：2,000円（研究会報告付き）；非会員3,000円（研究会報告付き）；

学生会員・学生非会員：研究報告購入者　1,000円（聴講のみは無料）

研究会報告単品購入1部2,000円（当日価格、税込）

共　催：宇都宮大学オプティクス教育研究センター、

早稲田大学理工学術院・総合研究所理工学研究所、

IEEE Nuclear and Plasma Science Society、

電気学会・パルス電磁エネルギー技術委員会

協　賛：電気学会リソグラフィ将来技術調査専門委員会

担当委員：東口　武史（宇都宮大学）

　　　　TEL 028-689-6087　FAX 028-689-6009　　

E-mail: higashi@cc.utsunomiya-u.ac.jp

プログラム：

12時45分から13時15分

1）電荷交換分光法によるBEUV光源開発の基礎データ取得計画と与太話

　　　田沼 肇（首都大学東京）

13時15分から13時45分

2）Soft x-ray and EUV sources

　　　Gerry O’Sullivan¹, Padraig Dunne¹, Paddy Hayden^1,2, Bowen Li^1,3, Ragava Lokasani^1,4, Elaine Long¹, Hayato Ohashi⁵, Fergal O’Reilly¹, Takamitsu Otsuka^1,6 John Sheil¹, Paul Sheridan¹, Emma Sokell¹, Chihiro Suzuki⁷, Elgiva White¹, and Takeshi Higashiguchi⁶（1. University College Dublin, 2. Dublin City University, 3. Lanzhou University, 4. Czech Technical University, 5. University of Toyama, 6. Utsunomiya University, 7. National Institute for Fusion Science）

13時45分から14時15分

3）輻射流体計算コードの開発と発展

　　　砂原 淳（公益財団法人レーザー技術総合研究所）

14時15分から14時45分

4）EUV光源プラズマのモデリング

　　　佐々木 明（原子力機構）

[休憩]　14時45分から15時00分

15時00分から15時30分

5）EUにおける高平均出力超短パルスレーザの開発状況

　　　三浦 泰祐¹，遠藤 彰^1,2，Tomas Mocek¹(1. HiLASE Centre, Institute of Physics ASCR，2. 早稲田大学理工学術院・総合研究所理工学研究所)

15時30分から16時00分

6）XFEL SACLAによる利用研究の進展

　　　富樫 格（（公財）高輝度光科学研究センター）

16時00分から16時30分

7）高出力アト秒パルス光源の現状と今後

　　　高橋 栄治（理研 光量子工学研究領域）

16時30分から17時00分

8）多層膜ミラーによるEUV回折限界結像系の開発の現状と展開

　　　豊田 光紀(東北大学・多元物質科学研究所)