レーザー学会第542回研究会
「スマートレーザプロセシング」の御案内

日時：2020年3月27日（金） 10:30-17:40
場所：天草市民センター（〒863-0033 熊本県天草市東町３）
共催：電気学会　光・量子デバイス技術委員会
講演時間：招待講演：35分、一般講演：1件25分（いずれも質疑応答5分を含む）
参加費：無料（参加予約不要）但し講演資料は有料
本研究会資料の申込先：電気学会事業サービス課　TEL 03-3221-7313, e-mail: event@iee.or.jp
担当委員（問い合わせ先）：中田芳樹（大阪大学）
E-mail: nakata-y@ile.osaka-u.ac.jp
電気学会担当委員：奈良崎愛子（産総研）
E-mail: narazaki-aiko@aist.go.jp

プログラム

1. 広域パラメータ可変超短パルスレーザーによるセラミックスの微細加工

奈良崎 愛子,高田 英行,吉富 大,鳥塚 健二(産業技術総合研究所),小林 洋平(東京大学)

1. ビーム整形及び干渉パターン加工法の進展

中田 芳樹,青山 太洋,小坂 悠起,林 英輝(大阪大学),奈良崎 愛子(産業技術総合研究所),東海林 竜也,坪井 泰之(大阪市立大学),大澤 一仁(村田製作所),吉田 匡孝(大阪ガス)

1. グリオキシル酸Co/Ni混合錯体のフェムト秒レーザ還元描画特性

溝尻 瑞枝,中谷 光(長岡技術科学大学),植月 暁,大石 知司(芝浦工業大学)

1. 液体窒素中レーザーアブレーション法による微粒子の生成及び解析

矢田 智昭,松尾 由賀利(法政大学)

12：10－13：30休憩

1. 【招待講演】Nanoscale 3D printing of functional structures using blended resin mixtures

Lu Yongfeng(University of Nebraska - Lincoln)

1. 電子デバイス製造のためのエキシマレーザープロセシング

池上 浩,中村 大輔,菊地 俊文,水谷 彬(九州大学)

1. Hybrid Additive and Subtractive Femtosecond Laser Direct Write of 3D Proteinaceous Microstructures

ゼリーン ダニエラ,杉岡 幸次(理化学研究所)

1. Hybrid femtosecond laser processing of three-dimensional glass microfluidic chips for real-time SERS sensing

白 石,Serien Daniela,小幡 孝太郎,杉岡 幸次(理化学研究所)

15：20－15：35休憩

1. 低ばね定数AFMカンチレバーを用いたフェムト秒レーザー誘起衝撃力の高感度検出手法の開発

荒木 崇志,Tang Tao,Yaxiaer Yalikun,安國 良平,細川 陽一郎(奈良先端科学技術大学院大学)電子デバイス製造のためのエキシマレーザープロセシング

1. 高強度極端紫外線パルスによる誘電体の非熱的レーザー加工

澁谷 達則(産業技術総合研究所),坂上 和之(東京大学),ヂン タンフン(量子科学技術研究開発機構),東口 武史(宇都宮大学),石野 雅彦,錦野 将元(量子科学技術研究開発機構),小川 博嗣,田中 真人(産業技術総合研究所),鷲尾 方一(早稲田大学),小林 洋平(東京大学),黒田 隆之助(産業技術総合研究所)

1. 真空紫外レーザによるポリカーボネート上におけるAl薄膜パターニングの微細化

吉田 剛(防衛大学校),野尻 秀智(（株）レニアス),大越 昌幸(防衛大学校)

1. 機械学習を用いた補償光学によるレーザー加工

長谷川 智士,早崎 芳夫(宇都宮大学)

1. 数サイクルレーザーパルスにより励起した短距離伝搬型表面プラズモンによる微細加工

宮地 悟代,飯田 悠斗(東京農工大学)